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    項目介紹

    工作原理：根據計算機圖形數據文件，對光刻膠等近紫外感光材料進行直寫曝光或在其他光刻基板上進行圖形化直寫。

    樣品要求

    1.LD 固體激光器 405nm±10nm波長

    2. 樣品尺寸：8英寸及以下,支持規則或不規則形狀的基底; 包括 Si、SiN、GaAs、InP、SiC 等透明、半透明、不透明基底

    3. 分辨率＞600nm  ，采用空間光調制器頻閃掃描曝光/ 連續光曝光

    4.可支持厚光刻膠曝光、支持二次重復對準曝光。

    5.支持文件格式：GDSII、BMP

    項目案例

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