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激光直寫光刻機

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激光直寫光刻機

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項目介紹

工作原理：根據(jù)計算機圖形數(shù)據(jù)文件，對光刻膠等近紫外感光材料進行直寫曝光或在其他光刻基板上進行圖形化直寫。

樣品要求

1.LD 固體激光器 405nm±10nm波長

2. 樣品尺寸：8英寸及以下,支持規(guī)則或不規(guī)則形狀的基底; 包括 Si、SiN、GaAs、InP、SiC 等透明、半透明、不透明基底

3. 分辨率＞600nm  ，采用空間光調(diào)制器頻閃掃描曝光/ 連續(xù)光曝光

4.可支持厚光刻膠曝光、支持二次重復對準曝光。

5.支持文件格式：GDSII、BMP

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