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橢偏儀的工作原理以及在工業中的應用是什么?
來源:測試GO 時間:2022-10-12 11:54:53 瀏覽:4201次

橢偏儀有著測量精度高、快速多次測量且長期可靠性的優點,常常被用來檢測化學材料微觀結構、超薄膜厚度等實驗。科研人員發現橢偏儀可以和很多技術并用,比如:原子力顯微鏡拉曼光譜儀等。這使橢偏儀被廣泛地運用在研究材料、生物以及醫藥制造等領域中。

 

橢偏儀實驗儀器展示 

 

橢偏儀的工作原理:

入射光束(線偏振光)的電場可以在兩個垂直平面上分解為矢量元。P平面包含入射光和出射光,s平面則是與這個平面垂直。類似的,反射光或透射光是典型的橢圓偏振光,因此儀器被稱為橢偏儀。在物理學上,偏振態的變化可以用復數ρ來表示:其中ψ和?分別描述反射光p波與s波振幅衰減比和相位差。P平面和s平面上的Fresnel反射系數分別用復函數rprs來表示。rprs的數學表達式可以用Maxwell方程在不同材料邊界上的電磁輻射推到得到。

其中?0是入射角,?1是折射角。入射角為入射光束和待研究表面法線的夾角。通常橢偏儀的入射角范圍是45°到90°。這樣在探測材料屬性時可以提供最佳的靈敏度。每層介質的折射率可以用下面的復函數表示。

通常n稱為折射率,k稱為消光系數。這兩個系數用來描述入射光如何與材料相互作用。它們被稱為光學常數。實際上,盡管這個值是隨著波長、溫度等參數變化而變化的。當待測樣品周圍介質是空氣或真空的時候,N0的值通常取1.000

通常橢偏儀測量作為波長和入射角函數的ρ的值(經常以ψ和?或相關的量表示)。一次測量完成以后,所得的數據用來分析得到光學常數,膜層厚度,以及其他感興趣的參數值。


橢偏儀在各工業的應用:

1、可用于實驗室研究,教學,在線制程監控,工業品質控制等應用。
2、半導體行業:硅的氧化物和氮化物,高和低k介質、多晶和非晶硅薄膜,光刻膠。
3、光學涂覆工業:高、低折射率薄膜如SiO2TiO2Ta2O5MgF2,等。
4、顯示行業:導電層(如ITO),非晶硅薄膜、有機薄膜(OLED技術)。
5、數據存儲產業:類金剛石薄膜。
6R&D 工序:薄膜沉積的原位表征(速率和光學常數)對應工藝條件的變化值,適用于MBEMOCVDALD、濺射等。
7、化學和生物:亞-單層材料吸附液體中的細胞實驗檢測。
8、工業:在線監測和控制薄膜的厚度。


 

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全部 3小時前 四川
文字是人類用符號記錄表達信息以傳之久遠的方式和工具。現代文字大多是記錄語言的工具。人類往往先有口頭的語言后產生書面文字,很多小語種,有語言但沒有文字。文字的不同體現了國家和民族的書面表達的方式和思維不同。文字使人類進入有歷史記錄的文明社會。
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